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電子氣體在高新技術(shù)中的應(yīng)用
發(fā)布時(shí)間：2022-07-12 09:18:41      點(diǎn)擊次數(shù)：775

進(jìn)入20世紀(jì)90年代以后，隨著我國高新技術(shù)的快速發(fā)展，計(jì)算機(jī)工業(yè)對大規(guī)模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加；隨著新型能源的發(fā)展，我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產(chǎn)；此外，新型電光源、光電半導(dǎo)體器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纖通訊器件也獲得迅猛發(fā)展，在上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中，都需要大量高純氣體，以制造出性能可靠的各種器件。

 

大規(guī)模集成電路
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化學(xué)刻蝕：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化學(xué)摻雜：BF3，B2H6，PH3，AsH3

 

液晶屏
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，SiNx
化學(xué)刻蝕：SF6，HCl，Cl2

 

太陽能電池
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，NH3，NF3
擴(kuò)散、刻蝕：POCl3，O2，CF4

 

光電半導(dǎo)體
化學(xué)氣相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化學(xué)刻蝕：BCl3，Cl2

 

光導(dǎo)纖維
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化學(xué)刻蝕：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6


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